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北京中清国投環境保護科学技術有限公司
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E+H CPS 76 ES水質分析pH/ORP電極

交渉可能更新04/14
モデル
製造者の性質
プロデューサー
製品カテゴリー
原産地
概要
デジタル式pH/ORP組み合わせ電極$r$nMemosens CPS 76 E$r$nE+H CPS 76 ES水質分析pH/ORP電極$r$nMemosens 2.0組み合わせ電極は、化学工業プロセスと有毒媒体測定$r$nMemosens CPS 76 Eに適しており、pHとORP測定を同時に行うことができる。汚染防止型参照システム、重度汚染媒体と低導電性媒体を確実に測定する
製品詳細

デジタルpH/ORP複合電極
メモセンス CPS76E

Memosens 2.0組み合わせ電極は、化学工業プロセスと有毒媒体の測定に適している

E+H CPS 76 ES水質分析pH/ORP電極

CPS76E.jpg

各種応用における液体分析

液体分析における各種パラメータ測定のための完全な製品シリーズ

環境保護、安定した製品品質、プロセス最適化、安全性–これらは液体分析がますます重要になる一部の原因にすぎない。水、飲料、乳製品、化学品、薬品などの液体分析は日常的な仕事になっている。私たちはあなたに実際の応用経験と良好な測定技術を提供して、あなたの測定任務を完成します。包括的な製品ファミリから適切な計器を選択し、プロセス要件を満たします。

Memosens CPS 76 Eは過酷な状況測定の専門家であり、pHとORPの測定を同時に行うことができる。汚染防止型参照システム、重度汚染媒体と低導電性媒体を確実に測定する。CPS 76 EはMemosens 2.0デジタル技術を採用し、高いプロセス完全性を持ち、操作は非常に簡単である。防水防湿設計で、実験室センサーの標定を許可し、拡張データ記憶をサポートし、標定パラメータとプロセスパラメータを保存する。事前メンテナンスを実施するための基礎です。

優位
Memosens 2.0は拡張ストレージユニットをサポートし、標定パラメータとプロセスパラメータを保存し、傾向認識をより良く行い、将来の事前メンテナンスの実施とIIoT工業物ネットワークサービスの改善に提供する基礎を提供することができる。

同時にpH、ORPとrH値を測定し(rHモードで)、豊富なプロセス情報を提供でき、厳格なプロセス制御の堅固な基礎である。

分散液などの閉塞しやすい媒体を確実に測定するために、圧力パラメータシステムを選択できます。

電極帯専用イオントラップは、リード線と参照系の毒性拡散を効果的に防止し、長寿命を確保する。

電極の倒置を許可し、柔軟に取り付ける。

非接触誘導信号伝送方式を採用し、高いプロセス安全性を有する。

生産停止時間をできるだけ短縮し、電極の使用寿命を延長し、運営コストを削減した。E+H CPS 76 ES水質分析pH/ORP電極

IIoT工業物ネットワークをサポートする:Memosens 2.0は拡張メモリユニットをサポートし、標定パラメータとプロセスパラメータを保存し、傾向認識をより良く行い、将来の事前メンテナンスの実施とIIoT工業物ネットワークサービスの改善に基礎を提供する。

低使用コスト:実験室の標定をサポートし、現場でオンラインで電極を迅速に交換し、生産停止時間をできるだけ短縮し、電極の使用寿命をより長くする。

堅牢で耐久性があり、メンテナンスニーズが低い電極:長毒性拡散経路または最適化されたイオン捕捉トラップにより、参照電極毒性拡散を回避する。誘電体による汚染を避けるための大面積汚染防止型PTFEダイアフラム。

ガラス電極は、全pH測定範囲にわたって、プロセス絶対圧が17 bar(246.5 psi)を超えない条件下で測定することができる。フッ化水素酸を含む媒体中で測定する場合は、半導体製造時のエッチング槽などのF型ガラス電極を選択することができる。

改良されたオプションの塩橋機能は、ボイラー給水などの低電気伝導率の応用の場で確実に測定できることを確保する。

非接触誘導信号伝送方式を採用し、高いプロセス信号完全性を有する。


応用分野
化学工業プロセスとプロセス監視:

pH値またはORP値の高速変動

H 2 Sなどの高濃度毒性媒体

ATEX、IECEx、CSA C/US、NEPSI、JPN、INMETRO認証により、防爆0区、1区、2区で使用できる。E+H CPS 76 ES水質分析pH/ORP電極

製品仕様パラメータ

  • 測定範囲

    ORP: 1,500~1,500 mV
    アプリケーションB
    pH:0〜14
    アプリケーション H
    pH:0〜12

  • プロセス温度

    アプリケーションB&H:
    0から140°C(32から284°F)
    バージョンTB:
    0から140°C(32から284°F)
    バージョンTU、TP(加圧参照):
    0〜140°C(32〜284°F)(殺菌のみのための140°C(284°F))
    増加による連続的な動作で最大100°C(212°F)
    T>100°C(212°F)での圧力下降

  • プロセス圧力

    適用 B: 0.8 から 14 バー (11.6 から 203 psi) 絶対
    適用 H: 0.8 から 7 バー (11.6 から 101.5 psi) 絶対