電子光学清浄職場

光学マイクロエレクトロニクス浄化工程の定義は、一定空間範囲内の空気中の微塵粒子、有害空気、細菌などの汚染物を排除し、室内の温湿度、清浄度、室内圧力、気流速度と気流分布、騒音振動と照明、静電気制御をある需要範囲内にし、特別に設計された密閉空間に与えられる。
光学マイクロ電子浄化プロジェクトはクリーンルームまたはクリーンルームとも呼ばれ、現在は半導体、精密製造、液晶製造、光学製造、配線板製造と生物化学、医薬、食品製造などの業界で不可欠な重要な施設となっている。ここ数年来、技術の革新的な発展のため、製品の高精度化、細小型化に対する需要は更に差し迫っており、例えば超大型積体回路の研究製造は、すでに世界各国が科学技術の発展において極めて重視するプロジェクトとなっており、当社の設計理念と施工技術は業界の中でリードしている。
光学マイクロエレクトロニクス浄化工程は一般的に以下を含む：
1、クリーン生産区
2、清潔補助室（人員浄化用室、物質浄化用室と一部生活用室などを含む）
3、管理区（事務、当直、管理と休憩などを含む）
4、設備エリア（浄化空調システムの応用、電気用部屋、高純水と高純気用部屋、冷熱設備用部屋を含む）
光マイクロエレクトロン浄化工学の浄化原理
気流→初効果浄化→空調→中効果浄化→ファン送風→配管→高効率浄化風口→部屋に吹き込む→塵埃菌を持ち去る
等顆粒→還風ブラインド→初期効果浄化以上の過程を繰り返し、浄化目的を達成することができる。
光学マイクロエレクトロン浄化工程の浄化パラメータ
換気回数：100000級≧15回、10000級≧20回、1000≧30回。差圧：主職場対隣接部屋≧5 Pa
平均風速：10級、100級0.3－0.5 m/s、温度は冬季＞16℃、夏季＜26℃、ゆらぎ±2℃。
温度45－65%、GMP粉剤工場の湿度は50%前後が適当である、電子作業場は静電気が発生しないように湿度がやや高い。
ノイズ≦65 dB（A）、新風補充量は総送風量の10%−30%、照度300 LX。