排ガス浄化設備

紫外光触媒酸化UV排ガス浄化設備製油所、ゴム工場、化学工場、製薬工場、汚水処理場、ゴミ転送所、料理長ゴミ処理場、飼料工場、捺染工場、スプレー工場などの各種汚染源悪臭ガスの脱臭浄化に応用する。
紫外光触媒酸化UV排ガス浄化設備希釈拡散法

原理：臭気のあるガスを煙突を通って大気に排出するか、無臭空気で希釈し、悪臭物質濃度を下げて臭気を減らす。適用範囲：処理中、低濃度の組織排出悪臭ガスに適用する。利点：費用が低く、設備が簡単である。欠点：気象条件に制限されやすく、悪臭物質は依然として存在する。

すいきゅうしゅうほう

原理：臭気中のある物質が水に溶けやすい特性を利用して、臭気成分を直接水に接触させ、それによって水に溶けて脱臭目的を達成する。適用範囲：水溶性、組織排出源を有する悪臭ガス。利点：技術が簡単で、管理が便利で、設備の運転費用が低く二次汚染が発生し、洗浄液を処理する必要がある。欠点：浄化効率が低く、他の技術と併用しなければならず、チオール、脂肪酸などの処理効果が悪い。

ばっ気式脱臭法

原理：悪臭物質を曝気形式で活性汚泥を含む混合液中に分散し、懸濁により成長した微生物による悪臭物質の分解は適用範囲が広い。適用範囲：2013年現在、日本は糞便処理場、下水処理場の臭気処理に使用されている。利点：活性汚泥が馴化された後、極限負荷量を超えない悪臭成分に対して、除去率は99.5%以上に達することができる。欠点：曝気強度の制限を受け、この方法の応用にはまだ限界がある。

触媒酸化プロセス

原理：反応塔内に特製の固体充填剤を充填し、充填剤内部に多媒体触媒を複合する。悪臭ガスが送風機の作用下でフィラー層を通過し、特製ノズルを通じて発散霧状に噴出された液相複合酸化剤と固相フィラー表面で十分に接触し、多媒体触媒の触媒作用の下で、悪臭ガス中の汚染因子は十分に分解される。適用範囲：適用範囲が広く、特に大気量、中高濃度の排ガス処理に適し、疎水性汚染物質に対して良好な除去率がある。利点：敷地が小さく、投資が低く、ランニングコストが低い、管理が便利で、すぐに使えます。欠点：耐衝撃負荷、汚染物質濃度及び温度変化の影響を受けにくく、一定量の薬剤を消費する必要がある。

ていおんプラズマ

低温プラズマは固体、液体、ガスに続く物質の第4の状態であり、印加電圧がガスの着火電圧に達すると、ガス分子が破壊され、電子、各種イオン、原子、ラジカルを含む混合体が生成される。放電中は電子温度が高いが、重粒子温度が低く、系全体が低温状態を呈するため、低温プラズマと呼ばれる。低温プラズマによる汚染物質の分解は、これらの高エネルギー電子、ラジカルなどの活性粒子と排気ガス中の汚染物質の作用を利用して、汚染物質分子を極短時間で分解させ、その後の各種反応を発生させて汚染物質を分解する目的を達成する。

低温プラズマ空気浄化設備が顕著に治めることができる汚染は：VOC、悪臭ガス、異臭ガス、油煙、粉塵、消毒殺菌にも用いることができる。低温プラズマ技術は全く新しい浄化過程であり、添加剤を必要とせず、廃水、スラグを発生させず、二次汚染を招くことはない。