光起電力/半導体超純水装置

一.設備概要
半導体超純水設備は半導体生産部品の洗浄に応用される超純水設備であり、特定の用水水質基準に適合する必要がある,半導体超純水設備の出水水質は米国に適合しなければならないASTM純水水質基準、中国電子工業電子級水質技術基準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)、半導体工業用純水指標、集積回路水質基準。 栄大環境保護はユーザーの用水基準を満たす基その上、設備システムにはタンクに液位制御システムが設置され、ポンプには圧力保護装置が設置され、オンライン水質検査制御計器、電気的に採用されているPLCプログラマブルコントローラは、本当に無人の職務を実現し、同時に技術選材に推薦と顧客の要求を統一する方法を採用し、設備を他の同類製品と比較し、より高い性価格比と設備信頼性を持つようにした。

二.設計基準及び根拠

1. ユーザーが提供する詳細な水質報告書に基づいて「カスタマイズ」する。

2. 水処理設備の技術条件JB/T 2932-1999》

3. 逆浸透水処理設備標準『CJ/T119-2000》

4. 低圧スイッチング装置と制御装置のセット『IEC439-1》

5. 実験室ちょうじゅんすい技術指標標準《GB6682-2008》

6. 国家電子級ちょうじゅんすい規格『GB/T11446.1-1997》

三.プロセスフロー

1、 原水−原水加圧ポンプ−多媒体フィルタ−活性炭フィルタ−軟水器−精密フィルタ−第1段逆浸透−PH調整−中間タンク−第2段逆浸透−精製タンク−純水ポンプ−EDIシステム−超純水タンク−純水ポンプ−研磨装置−終端限外ろ過−用水点

四、設計特徴

1. システムは全自動制御を採用(同時に手動制御を採用することもできます）、システム運転時に自動逆洗、再生プログラムを設定することができます、

2. 各ユニットの配線は工場内で統一的に完成し、設置調整時間を減少する、

3. 1級逆浸透と2級逆浸透には還流管路が設けられ、逆浸透設備には化学洗浄装置が設けられている、

4. パイプの一般的な使用方法UPVCマテリアル、

5. 統合制御システムと統合計器システムなど、操作管理が便利である、

6. ROまくタイミングクリーニング 電源投入とタイミング洗浄があるRO膜機能、延長RO膜の使用寿命、

7. 水回収率 特殊なプロセス設計により、設備のかいしゅうりつ、最高到達可能70%；

8. 設備は消耗品の交換自動提示機能を有し、また消耗品の交換周期は水質と圧力の変化に依存し、消耗品の使用時間によってではなく、各地の水質の違いを考慮し、設計はより科学的である、

9. セルフケア機能 源水渇水自動停止保護機能は同時にタンク渇水自動産水、満水自動停止機能を有する。