UV光酸素触媒装置の概要:UV光酸素触媒装置の特徴:有機排ガスは一般的に燃えやすく爆発しやすく、有毒で有害で、水に溶けず、有機溶媒に溶け、処理難度が大きい特徴がある。
UV光酸素触媒装置はCバンド紫外線と空気中の酸素との反応によりオゾンを発生し、オイルミスト、排気ガスなどの汚染媒体を分解する際、紫外線中の高エネルギーオゾンが決定的な役割を果たす。流星群状の高エネルギーオゾンと媒質内分子(原理)との非弾性衝突が発生し、エネルギーを基底状態分子(原子)の内部エネルギーに変換し、励起、解離、イオン化などの一連の過程が発生して汚染媒質を活性化状態にする。浄化脱臭効果を達成する。
汚染媒体はイオン化の作用の下で、活性ラジカルを発生し、活性化後の汚染物質分子は配向鎖化学反応を経て除去された。平均エネルギーが汚染媒体中の化学結合エネルギーを超えると、分子鎖が破壊され、汚染媒体が分解され、オゾン発生器吸着場の作用下で収集される。媒質内の分子濃度及び共存する媒質成分。
UV光酸素触媒装置によるガス状有機汚染物の分解機構
ラジカルを生成し、一連の複雑な物理的、化学的反応を引き起こすのに十分なエネルギーがある。オゾン発生器の作用によるガス有機物化学反応は、気相中で行われるイオン化、解離、励起、原子である。分子間の相互結合及び付加反応。このエネルギーは、ほとんどのガス状有機物中の化学結合を破壊し、分解するのに十分である。
空気浄化効率の観点から、我々はC帯域紫外線とオゾン発生器を選択し、コロナ電流高化装置を結合し、パルスコロナ放出吸着技術を結合した原理を用いて有害ガスを除去し、その中でC帯域紫外線は主に硫化水素、アンモニア、ベンゼン、トルエン、キシレン、ホルムアルデヒド、アセトン、ウレタン、樹脂、などのガス除去と消毒滅菌に用いられる。
浄化装置は初期濾過ユニット、−Cバンド紫外線装置、分解収集、オゾン発生器及び濾過ユニットなどの設備と部品から構成される。
UV光酸素触媒装置の製品特徴
UV光酸素触媒設備の特徴:有機排ガスは一般的に燃えやすく爆発しやすい、有毒で有害、水に溶けない、有機溶媒に溶け、処理が難しいという特徴がある。有機排ガス処理の際に一般的に採用されているのは、有機排ガス活性炭吸着処理法、触媒燃焼法、触媒酸化法、酸塩基中和法、プラズマ法などの多種の原理である。低温プラズマ法は除去効率が高く使いやすいという特徴があるため、一般的にプラズマ法が推奨されている。比較的に良い有機排気ガス処理方法は触媒酸化浄化システムであり、排気ガス処理の設計は緻密で、層ごとに濾過排気ガスを浄化し、効果は比較的に良い。
有機排ガス処理工程ごとに異なる特性を有しており、有機排ガス処理工程を設計する際には、*良い効果を確実に達成するために、その関連する詳細に注意しなければならない。
UV光酸素触媒装置中のベンゼン類(ベンゼン系有機物)は人の中枢神経を損害し、神経系障害をもたらし、ベンゼン蒸気濃度が高すぎると(空気中の含有量が2%に達する)、致死性の急性中毒を引き起こすことができる。
UV光酸素触媒装置における多環芳香族有機物の強い発がん性、
UV光酸素触媒装置中の安息香酸系有機物細胞タンパク質が変形または凝固し、全身中毒になる、
UV光酸素触媒装置中のジフェニルアミン、ジフェニルアミンが人体に入ると酸素欠乏症を引き起こすことができる、
UV光酸素触媒装置における酸素含有有機化合物の高濃度エチレンオキシド吸入は人を死亡させる可能性がある
有機排ガスの大部分は燃えやすく爆発しやすく、有毒で有害な化合物であり、このような危険な化学品は浄化・整備工事において、安全性に特に重要であるためである。私たちの設計と製造の原則:安全*、次は達成です。安全性から外れて、何も意味がない。
有機排ガス処理とは、工業生産過程で発生した有機排ガスを吸着、濾過、浄化する処理作業を指す。通常、有機排ガス処理としては、ホルムアルデヒド有機排ガス処理、ベンゼンキシレンなどのベンゼン系有機排ガス処理、アセトンブタノン有機排ガス処理、酢酸エチル排ガス処理、オイルミスト有機排ガス処理、フルフラール有機排ガス処理、スチレン、アクリル有機排ガス処理、樹脂有機排ガス処理、添加剤有機排ガス処理、漆霧有機排ガス処理、天那水有機排ガス処理などの炭素含有水素酸素などの有機物の空気浄化処理がある。