uv光触媒酸化装置

uv光触媒酸化設備は我が国の先進的な技術理念を採用し、技術者の長期的な試験を通じて開発された、自主知的財産権を持つ環境保護浄化製品は工業排ガス中の有毒有害物質を分解することができ、そして脱臭、浄化効果を達成することができ、分解後の工業排ガスは、無害化排出を達成することができ、二次汚染を発生させず、同時に効率が高く病原菌を殺す作用を達成することができる。

uv光触媒酸化装置は高強度ナノ紫外線破壊、高分子鎖の分解を小分子鎖とし、オゾンとヒドロキシラジカル酸化、触媒を再利用して触媒酸化を行い、有機物を水と二酸化炭素に変え、有機物を除去する目的を達成する。

uv光触媒酸化装置の動作原理

半導体光触媒の多くはn型半導体材料であり（現在TiO 2として広く使用されている）、いずれも金属または絶縁物質とは異なる特別なバンド構造、すなわち1つの価電子帯と伝導帯の間に禁止帯が存在する。

半導体の光吸収閾値とバンドギャップは式K=1240/Eg（eV）の関係にあるため、一般的に使用されるバンドギャップ半導体の吸収波長閾値は紫外領域にあることが多い。光子エネルギーが半導体吸収閾値を上回る光が半導体に照射されると、半導体の価電子帯はバンド間遷移、すなわち価電子帯から伝導帯に遷移し、それによって光電子（e−）と正孔（h＋）を生成する。このときナノ粒子表面に吸着した溶存酸素が電子を捕捉して超酸素マイナスイオンを形成し、正孔は触媒表面に吸着した水酸化物イオンと水を酸化して水酸化物ラジカルになる。一方、超酸素マイナスイオンと水素酸素ラジカルは強い酸化性を持ち、ほとんどの有機物を生成物CO 2とH 2 Oに酸化することができ、一部の無機物に対しても分解することができる。

uv光触媒酸化装置の性能優位性

1、悪臭除去：揮発性有機物（VOC）、無機物、硫化水素、アンモニア、チオール類などの主要汚染物、及び各種悪臭を除去でき、脱臭効果は我が国が1993年に公布した悪臭汚染物排出基準（GB 14554-93）と1996年に公布した「大気汚染物総合排出基準」（GB 16297-1996）を大幅に上回った。

2、いかなる物質を添加する必要はない：相応の排風パイプと排風動力を設置し、悪臭/工業排ガスを本設備を通じて脱臭分解浄化し、いかなる物質を添加して化学反応に参与する必要はない。

3、適応性が強い：GY-シリーズ悪臭ガス（工業排ガス）UV光分解排ガス浄化設備は高濃度、大気量、異なる工業排ガス物質の脱臭、浄化処理に適応でき、毎日24時間連続作業でき、運行が安定で信頼性がある。

4、運行コストが低い：GY-シリーズ悪臭ガス（工業排ガス）UV光分解排ガス浄化設備は機械的な動作がなく、騒音がなく、専任者の管理と日常メンテナンスが必要なく、定期的な検査を行うだけで、本設備のエネルギー消費が低く、設備の風抵抗が極めて低い＜50 paで、大量の排風動力エネルギー消費を節約できる。

5、設備の敷地面積が小さく、自重が軽い：配置がコンパクトで、場所が狭いなどの特殊な条件に適合し、設備の敷地面積＜1平方メートル/10000 m 3/h風量を処理する。

6、輸入材料の製造：防火、腐食防止性能が高く、設備の性能が安定しており、ステンレス材質を採用しており、設備の使用寿命は15年以上である。

7、防爆認証製品：設備は、防爆特性を有し、すでに我が国の防爆電器産品質監督検査センターのEx防爆合格認証（証明書番号：CNEx 13.0792 X）を通過し、採油（ガス）田、石油化学工業、製薬などの防爆要求の高い業界に広く応用できる。

uv光触媒酸化装置技術パラメータ

uv光触媒酸化装置の応用分野

塗料排ガス処理、塗装排ガス処理、飼料業界排ガス処理、インク生産排ガス処理、射出排ガス処理、ブローフィルム排ガス処理、プラスチック造粒排ガス処理、家具工場排ガス処理、化学工業排ガス処理、製薬工場排ガス処理、食品加工排ガス処理、香料排ガス処理、印刷排ガス処理。

uv光触媒酸化装置例

プロジェクト：陝西印刷有限公司排ガス処理プロジェクト

主要成分：インク及びオーブン内に放出される高温排気ガス、

処理風量：10000 m 3/h、

設備配置：GY-TQ 10000型UVuv光触媒酸化設備1台、

処理基準：「悪臭汚染物排出基準」（GB 14554-93）の2級基準及び陝西省地方基準「大気汚染物排出制限値」（DB 4427-2001）の2級排出基準を実行する。