工業排ガス脱臭設備は特製の高エネルギー高オゾンUV紫外線ビームを用いて悪臭ガスを照射し、例えば:、硫化物H 2 S、VOC類、ベンゼン、トルエン、キシレンの分子鎖構造を分解し、有機または無機高分子悪臭化合物の分子鎖を使用し、高エネルギー紫外線ビーム照射下で、CO 2、H 2 Oなどの低分子化合物に分解転換する。
1、工業排ガス脱臭装置特製の高エネルギー高オゾンUV紫外線ビームを用いて悪臭ガスを照射し、分解悪臭ガス、例えば:、アンモニア、*アミン、硫化水素、メチルチオール、メチルチオエーテル、ジメチルジ硫黄、二硫化炭素とスチレン、硫化物H 2 S、VOC類、ベンゼン、トルエン、キシレンの分子鎖構造を用いて、有機または無機高分子悪臭化合物分子鎖を、高エネルギー紫外線ビーム照射下で、分解してCO 2、H 2 Oなどの低分子化合物に変換する。
2、高エネルギー高オゾンUV紫外線ビームを利用して空気中の酸素分子を分解して遊離酸素、すなわち活性酸素を発生し、遊離酸素が持つ正負電子がアンバランスであるため酸素分子と結合し、さらにオゾンを発生する必要がある。UV+O 2→O−+O*(活性酸素)O+O 2→O 3(オゾン)、*オゾンは有機物に*の酸化作用があり、悪臭ガス及びその他の刺激性異臭に*の除去効果がある。
3、悪臭ガスは排風設備を用いて本浄化設備に入力した後、浄化設備は高エネルギーUV紫外線ビーム及びオゾンを用いて悪臭ガスに対して協同分解酸化反応を行い、悪臭ガス物質を分解して低分子化合物、水と二酸化炭素に転化させ、更に排風パイプを通じて室外に排出する。
4、高エネルギーUVビームを利用して悪臭ガス中の細菌の分子結合を分解し、細菌の核酸(DNA)を破壊し、オゾンを通じて酸化反応を行い、*脱臭及び細菌を殺す目的を達成する。