JX-9200型超純水設備

JX-9200型超純水設備

超純水とは、以下の不純物含有量が極めて低い水を指す：①無機イオン化不純物、例えば：Ca、Mg、Na、K、Fe2+、Fe3+、Mn、Al、HCO、CO、SO、Cl、NO、NO、SiO、POなど、②アルキルベンゼンスルホン酸、油、有機鉄、有機アルミニウム、その他の炭化水素などの有機物、③粒子、例えば塵、酸化鉄、アルミニウム、コロイドシリコンなど、④細菌、プランクトン、藻類などの微生物、⑤N 2、O 2、CO 2、H 2 Sなどの溶解ガス。超純水中のイオン化不純物の含有量は水の抵抗率数値で測定する。理論的には、導電に参加するのは純水中のHイオンとOHイオンだけです。25℃における超純水の抵抗率は18.3（メガ・cm）であり、一般的には約15〜18（メガ・cm）である。必要に応じて生産をカスタマイズすることができ、1 T/Hから1000 T/Hまで受け取ることができます。

デバイス分類

各業界のプロセス用水の要求の違いと原水の水質の違いに基づいて、異なる超純水逆浸透設備をカスタマイズして用水基準を達成することができる。

超純水設備技術

超純水は、一般的なプロセスでは達成しにくい程度であり、前処理、逆浸透技術、超純化処理及び後段処理の4つのステップを採用し、多段ろ過、高性能イオン交換ユニット、超ろ過フィルタ、紫外線ランプ、TOC装置、エディ電気除塩装置、研磨混合シーツ元などの多種の処理方法を採用し、抵抗率は18.25 MΩ*cm（25℃）に達することができる。

用途

1、電子、電力、めっき、照明電器、実験室、食品、製紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化学検査、生物、製薬、石油、化学工業、鉄鋼、ガラスなどの分野。

2、化学工業技術用水、化学薬剤、化粧品などは純水を用いる。

3、単結晶シリコン、半導体ウェハ切断製造、半導体チップ、半導体パッケージ、リードキャビネット、集積回路、液晶ディスプレイ、導電性ガラス、ブラウン管、配線板、光通信、コンピュータ素子、コンデンサクリーン製品及び各種部品などの生産プロセス用純水。