MH−GUG光酸素触媒有機排ガス浄化器

製品概要：

敏宏環境保護敬展牌MH-GUG光酸素触媒有機排気ガス浄化器は最新特製の高エネルギー高オゾンUV紫外線ビームを用いて悪臭ガスとTiO 2光触媒を照射し、窒素、トリメチルアミン、硫化水素、メチルチオール、ジメチルジスルフィド、ジスルフィド炭素とスチレン、硫化物H 2 S、VOC類、ベンゼン、トルエン、キシレンの分子鎖構造を触媒し、有機または無機高分子悪臭化合物分子鎖を触媒分解し、高エネルギー紫外線ビーム照射の下で、CO 2、H 2 Oなどの低分子化合物に分解転換させる。

動作原理：

排気ガス、悪臭ガスはファンからUV光酸素触媒有機排気ガス浄化設備に導入され、汚染媒体は高エネルギーUV紫外線ビーム分解の励起、紫外線照射の作用の下で、高濃度、高強度、高エネルギーの各種活性ラジカル、高エネルギーイオン、オゾン、原子酸素、生態酸素などの混合ガスを発生し、一連の複雑な分化分解と酸化、還元を行い、悪臭ガス物質を低分子無臭無害化合物または完全鉱化に転化させ、水と二酸化炭素を生成し、分解酸化過程全体は1〜2秒以内に完成し、風管を通じて基準を達成して排出する。

オゾンの発生：

高エネルギーUV紫外線ビーム分解を利用して、空気中に大量の自由電子を発生させ、これらの電子の大部分は酸素によって獲得され、負酸素イオン（O 3－）を形成し、負酸素イオンは不安定で、1つの電子を失いやすく活性酸素（オゾン）になりやすい。オゾンは高レベル酸化剤であり、有機物と無機物を酸化分解することができ、主要な臭気アンモニア、トリメチルアミン、硫化水素、メチルメルカプタン、メチルスルフィド、ジメチルジスルフィド、二硫化炭素、スチレンなどに対して、オゾンと反応することができ、オゾンの作用の下で、これらの悪臭ガスは高分子物質から鉱化まで分解される。

オゾン発生の過程：

UV+大気汚染→O+その他のマイナスイオン→O 2→マイナス酸素イオン→オゾンO 3

・OH（ヒドロキシラジカル）の生成：

装置は同時にプラズマ吸着能力と光放射線の強い酸化と紫外線ビームとナノスケールTiO 2の作用を利用してOHを発生することができ、水に溶けたオゾンもOHを発生することができる

・OH（ヒドロキシラジカル）は最も活性な酸化剤の一つであり、酸化能力は明らかに通常の酸化剤より高く、悪臭ガスと反応し、鉱化の程度はより高い。いくつかの酸化剤の酸化電位比較を以下の表に示す：

殺菌消毒：

高エネルギー光放射線の強酸化及び高エネルギーUVビームを用いて悪臭ガス中の細菌の分子結合を分解し、細菌の核酸（DNA板又はAB板はカスタマイズ可能）を破壊し、さらに・OH、O 3を通じて酸化反応を行い、徹底的に脱臭及び細菌を殺す目的を達成する。

製品の適用範囲：

敏宏環境保護敬展牌MH-3 GUG光酸素触媒有機排ガス浄化設備は広く適用されている：汚水処理場、ごみ処理場、製薬工場、製油所、化学工場、屠殺場、養殖場、飼料加工場、製紙工場、印刷工場、捺染工場、プラスチック再生工場、実験室などの有機排ガス及び悪臭ガスの脱臭浄化処理。

製品技術パラメータ：

システムインストールの概略図：