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無酸素硬化オーブンの無塵無酸素オーブン機能をどのように選択するか

交渉可能更新05/16
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概要

無酸素硬化オーブンの無塵無酸素オーブン機能はどのように選ぶべきか、無酸素硬化炉は精密電子部品、PI、BCBゴムの高温硬化焼成、銀ゴム硬化、フォトレジスト硬化、電子セラミック材料の無塵乾燥の特殊な技術要求に応用される

製品詳細

無酸素硬化オーブンのクリーン無酸素オーブン配置機能を選択する方法


クリーンと無酸素は2つの独立しているが、結合する可能性があるGエンドの需要であり、通常は精密電子、半導体、医療新材、新エネルギー、科学研究と材料処理などの分野に使用されている。

選択プロセスには、複数の重要な要素を体系的に考慮する必要があります。次のガイドは、ニーズを明確にし、適切な選択を行うためのガイドです。

無酸素硬化オーブンの無塵無酸素オーブン機能をどのように選択するかコア要件定義

1.無酸素レベルの要求:

・酸素含有量の制御目標はどのくらいですか。例:<1000 ppm、<100 ppm、<10 ppm、さらには<1 ppm。目標が低いほど、設備と運用コストが高くなります。

・アプリケーションとは?

・酸化防止:例えば焼結、焼鈍、ろう付け。通常は100 ppm未満、キー材料は50 ppm未満を必要とすることがあります。

・不活性雰囲気処理:例えば硬化、乾燥、酸素との反応を防止する。1000 ppm未満でよい場合があります。

・リチウム電池材料、いくつかの化学粉末、ナノ材料などの酸素に極めて敏感な材料。通常、20 ppm以上が必要です。

酸素分析器:リアルタイム監視と閉ループ制御のためにオンライン酸素分析器を標準的にまたはオプションで配置することができますか?

2.クリーンレベル要件:

・清浄度レベル:ISO 14644-1規格参照。よく見られるのはISO Class 100(百級)、ISO Class 1000(千級)、ISO Class 1000(万級)です。プロセスにはどのレベルが必要ですか。

・キー制御点:

・粒子状物質源:加熱素子(表面が平滑なシース加熱管を使用し、糸状抵抗線を避けるべき)、キャビティ内壁(平滑シームレス、角遷移)、シール材料(脱落しない)。

・保持方式:空洞内に常に正圧(高純不活性ガスを通す)を保持することによって外部塵埃の進入を防止するのか、それとも高効率/超高効率フィルタ(HEPA/ULPA)を組み合わせて空洞内空気を循環濾過する必要があるのか?

3.プロセス温度範囲:

・最高動作温度:一般的な範囲は200°C、300°C、400°C、500°C、およびより高い800°C、1200°C、さらに1600°Cである。温度が高いほど、加熱素子、断熱材、制御システムのコストが高くなる。

・常用動作温度:設備が常用温度点で安定し、均一に動作することを確保する。

4.ワークスペースサイズ:

・キャビティ寸法:最大ワークピースの寸法に基づいて、治具(ラック、キャリア)の必要なスペースを考慮して決定します。

原則として:プロセスを満たす前提の下で、キャビティは小さいほど良い、これは換気時間とガス消費を著しく減らし、温度均一性を高めることができるからである。

5.負荷状況:

・材質:ワークとラックの材質(金属、セラミックス、石英)及び高温でのガス放出特性。

・重量と数量:総負荷重量、及び密集配置の有無、これは熱伝導と気流循環に影響を与える。

・揮発性物質:プロセス中に溶剤、接着剤などの揮発があるか?これはキャビティ内の清浄度と酸素含有量の安定性に影響し、専門的な廃棄システムが必要になる可能性がある。

6.安全と補助機能:

・安全インターロック:高温時にドアが開かないインターロック保護。

・圧力安全:空洞内の圧力が高すぎることを防止するために、過圧リリーフ弁。

・ガス圧力/流量監視:吸気圧力を監視する。

・データ記録:全過程で温度、酸素含有量、時間などの重要なパラメータを記録し、品質の遡及要求を満たす。


クリーン無酸素オーブン適用業界

精密電子部品、PI、BCB接着剤の高温硬化焼成、銀接着剤硬化、フォトレジスト硬化、電子セラミック材料のクリーン乾燥の特殊な技術要求に応用し、タッチスクリーン、ウエハ、LED、PCB板、ITOガラスなどの精密電子、太陽エネルギー、新材料などの業界に適用する。