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上海隽思実験器械有限公司
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疎水処理蒸着機プログラマブルカップリング剤真空蒸着機

交渉可能更新05/16
モデル
製造者の性質
プロデューサー
製品カテゴリー
原産地

概要

疎水処理蒸着機のプログラム制御カップリング剤真空めっき機は処理過程の動作温度、処理時間、処理時の保持時間などのパラメータの制御によってシリコンシート、基板表面にカップリング剤(HMDS)を均一に塗布することができ、基板の接触角を変え、フォトレジストの使用量を下げ、フォトレジストとシリコンシートの接着性を高める。

製品詳細


疎水処理蒸着機のプログラマブルカップリング剤真空蒸着機の役割

処理過程の動作温度、処理時間、処理時保持時間等のパラメータの制御により、シリコンシート、基板表面にカップリング剤((HMDS)変えるきばん接触角は、レジストの使用量を下げ、レジストとシリコンシートの接着性を高める。

関連する国家基準、業界基準、地方基準などの基準、規範に従う

基準を満たす:ISO 9001品質システム標準及び関連する国家標準、業界標準、及び設備メーカーの規範。

疎水処理蒸着機のプログラマブルカップリング剤真空蒸着機の機能

番号

機能

技術パラメータ

1.

サイズ

内腔寸法(深さ*幅*高さ):≥3030300(mm)、マルチサイズオプション設備は小型一体化設計を採用し、デスクトップに置くことができる

2.

材質

外箱は良質の冷間圧延板を用いて射出成形し、内箱は 316 L級ステンレス鋼棚の階数≥2

3.

おんどはんい

RT+10-2型00℃へんどうど≤±0.5

4.

清浄度

class 100,設備はクリーン材料を採用し、100級フォトリソグラフィ間の環境浄化に適用する

5.

電源および総電力

AC 220V±10%/50HZトータルパワー2.5KW

6.

せいぎょけいき

ヒューマンインタフェース制御可能HMDS薬液添加時間

7.

真空ポンプ

反油防止ロータ真空ポンプ又は無油ポンプ、真空度:≤1ト

8.

ほごそうち

超温保護、漏電保護など

9.

HMDS漏洩警報

備え付けHMDSリアルタイム監視装置、警報提示機能を有する

このシステムは、SiC、GaNなどの第3世代半導体、 パッケージ(TSV、Fan-Out)、およびMicro-LEDの大量転送などの新興分野、その接着促進能力も同様に大きな潜在力を示している。安定した表面処理はこれらである技術が産業化を実現する礎石。半導体ウエハ製造工場(Foundry)、集積回路設計会社のプロセス研究開発部門、MEMS製造企業、フォトマスク生産、化合物半導体(GaN、SiCなど)デバイスメーカー、科学研究院所、大学のマイクロナノ加工実験室に適している。パッケージ(AP)メーカー、LEDメーカー、マイクロフロー制御チップ開発会社など。